抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂下层膜、抗蚀剂图案的形成方法和半导体装置的制造方法

一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有复合结构单元的树脂(G)和溶剂，上述复合结构单元具有含芳香族环的结构单元(A)和具有1个以上碳原子的结构单元(B)，上述树脂(G)是通过在上述结构单元(A)的构成上述芳香族环的碳原子与上述结构单元(B)中的碳原子之间生成共价键的反应而得的树脂，上述结构单元(A)包含含有具有3个以上芳香族烃环的双酚骨架的结构单元(A‑I)，上述结构单元(B)包含具有与上述结构单元(A)的构成上述芳香族环的碳原子结合的季碳原子的结构单元(B‑I)。