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气体供给装置、气体供给系统及气体供给方法
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18청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10P 72/00 (2026.01)H10P 14/24 (2026.01)
提供一种能够在使用工业气体的现场产生并稳定供给该工业气体的气体供给装置、气体供给系统和气体供给方法。气体供给装置包括由含有原料气体成分的原料气体获得产品气体的处理部、向处理部供给原料气体的管道、以及从处理部送出产品气体的管道。
IPC 분류
提供一种能够在使用工业气体的现场产生并稳定供给该工业气体的气体供给装置、气体供给系统和气体供给方法。气体供给装置包括由含有原料气体成分的原料气体获得产品气体的处理部、向处理部供给原料气体的管道、以及从处理部送出产品气体的管道。