검색으로 돌아가기
기록

一种半导体晶圆的刷胶设备

발명알 수 없음
8청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

丁超; 李锋; 陈宝康; 袁天恩

출원일

Apr 3, 2025

공개일

Oct 27, 2026

IPC 분류

B05C 11/00 (2006.01)B05C 15/00 (2006.01)B08B 3/02 (2006.01)B08B 3/08 (2006.01)B08B 5/02 (2006.01)B08B 13/00 (2006.01)H10P 72/00 (2026.01)

本发明公开了一种半导体晶圆的刷胶设备,包括机架、防护罩、旋转平台和挤胶枪,所述防护罩安装在机架上,且挤胶枪设置在防护罩侧边,所述旋转平台安装在防护罩内,所述防护罩内还安装有底盘,且旋转平台转动安装在底盘上,所述底盘下连接有支撑筒,且支撑筒与机架底板之间安装有伸缩件一,所述机架上还安装有固化罩,且机架的侧边安装有控制箱,所述底盘与机架之间还设有清洗组件;所述清洗组件包括有环水管、环风腔和集液盘。本发明通过伸缩件一带动底盘升高,使得旋转平台伸出防护罩后盖上固化罩进行固化,此时底盘即可带动清洁组件进入防护罩内,实现晶圆在固化的同时,清洁组件可以对防护罩内表面残留的胶液进行清理。

로그인하고 전문 읽기

청구항 1을 표시했습니다. 무료 가입하면 전체 8개 청구항, 명세서 전문, 전체 도면, 번역, 법적 상태를 볼 수 있습니다.

  • 전체 청구항
  • 기술 분야
  • 배경 기술
  • 발명의 내용
  • 도면 설명
  • 발명의 실시 형태