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一种比吸收率控制方法、装置、电子设备、介质及产品
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H04W 52/14 (2009.01)H04W 52/28 (2009.01)H04B 1/3827 (2015.01)
本申请提供一种比吸收率控制方法、装置、电子设备、介质及产品。根据本申请的一个示例,该方法可以包括:获取终端的调制解调器的状态和/或终端所处场景,终端所处场景包括具有不同SAR阈值要求的多种场景;根据获取到的状态和/或场景对应的预设功率,对终端的发射功率进行调整,以使调整后的发射功率对应的实际SAR值低于状态和/或场景对应的SAR阈值。