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一种半导体器件及其制造方法、电子设备
발명알 수 없음
21청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H10B 12/00 (2023.01)
一种半导体器件,包括:多层沿垂直于衬底方向堆叠的存储单元阵列,存储单元阵列包括至少一列沿第二方向分布的多个存储单元;多条位线,贯穿不同层的存储单元沿着垂直衬底方向延伸;不同层相同位置的存储单元连接到同一条位线;多条沿第二方向延伸的字线,分布于不同层,和位线沿第一方向分布;存储单元包括晶体管和第一电容电极,晶体管包括环绕字线的半导体层,第一电容电极设置在半导体层背离位线一侧;同列的多个晶体管的多个半导体层环绕同一条字线,且沿第二方向间隔分布;半导体层通过第一连接层与位线连接,通过第二连接层连接第一电容电极。本公开实施例提供的方案,可以增大水平字线的三维存储架构的晶体管的开态电流。
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