基板处理装置、基板处理方法以及物品制造方法

处理有机EL基板的基板处理装置具备：对处理有机EL基板的腔室的内部的压力进行测定的测定部；供给用于将腔室的内部设成规定环境的气体的供给部；从腔室排出气体的排气部；以及基于由测定部测定的压力控制供给部或者排气部以便腔室的内部的压力成为设定的压力范围的控制部。控制部以随时间的经过而变窄的方式变更压力范围，并且基于变更后的压力范围以随时间的经过而减小的方式控制依靠供给部的气体的供给量的调整范围或者依靠排气部的气体的排气量的调整范围。