기록

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS

발명심사 중

§ Ⅰ

개요

출원인

Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

발명자

FUKUSHIMA, Masahiro; WATANABE, Satoshi; FUNATSU, Kenji; MASUNAGA, Keiichi; KOTAKE, Masaaki; MATSUZAWA, Yuta

출원일

Jun 24, 2025

공개일

Jan 6, 2026

IPC 분류

G03FG03F

CPC 분류

G03FG03FG03FG03F

외부 자료