CNIPA.AI
검색으로 돌아가기
기록

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS

발명심사 중
4조회수
§ Ⅰ

개요

발명자

FUKUSHIMA, Masahiro

출원일

Jun 24, 2025

공개일

Jan 6, 2026

IPC 분류

G03FG03F

CPC 분류

G03FG03FG03FG03F