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기록
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS, AND RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION PROCESS
발명심사 중
4조회수
§ Ⅰ
개요
발명자
Kobayashi, Naoki; Kori, Daisuke; Yano, Toshiharu
출원일
Jun 24, 2025
공개일
Jan 6, 2026
IPC 분류
G03FC08F
CPC 분류
G03FG03FC08F