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기록

감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 패턴 형성 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법

발명patent.status.granted
20조회수
§ Ⅰ

개요

발명자

미요시 타로; 야마구치 슈헤이; 모토야마 히로키

출원일

Jan 18, 2023

공개일

Dec 31, 2025

IPC 분류

G3F 7/4C8F 212/14C8F 220/26G3F 7/38G3F 7/39G3F 7/20H1L 21/27

CPC 분류

G3F7/4C8F212/14C8F220/26G3F7/45G3F7/382G3F7/397G3F7/20H1L21/274