一种热丝CVD系统及硅片边缘钝化方法

本发明涉及一种热丝CVD系统，包括：真空腔室；真空腔室连接有真空及压力控制系统、气体输送及分布系统；竖直设于真空腔室中央的热丝电源馈入系统；沿热丝电源馈入系统方向设置的基底台，基底台上安装有旋转调节系统；以及，对基底台加热的衬底加热系统。通过将热丝CVD与可旋转基底台结合，用于太阳能电池片边缘钝化工艺，形成新型的热丝CVD边缘钝化系统；能够在不破空的情况下，先后对硅片不同断面进行钝化膜沉积，且钝化膜的组分可以通过气体配比进行调控。相对而言，传统ALD边缘钝化设备需要破空重新装载，本系统节省了工序，降低了实施难度。同时，由于避免了工艺过程暴露大气，钝化效果更好，对电池效率的提升更加明显。