一种用于交叉流的半导体处理设备及其应用

本申请涉及半导体技术领域，公开一种用于交叉流的半导体处理设备，包括反应腔和气体传输系统，所述气体传输系统连通所述反应腔，所述气体传输系统包括混合器，所述混合器连接有至少一组气体传输管路，其中，任意一组气体传输管路包括辅助气体管路和工艺气体管路，并且所述辅助气体管路与所述工艺气体管路在靠近所述混合器的一侧形成气路交汇点，流经所述辅助气体管路中用于载气或吹扫的辅助气体，以及流经所述工艺气体管路中的工艺气体经由所述气路交汇点进入所述混合器中混合，并在混合后进入所述反应腔。