一种基于激光源直写掩膜的高精密微纹理金属蚀刻方法

本发明公开了一种基于激光源直写掩膜的高精密微纹理金属蚀刻方法，通过光‑材‑机协同优化设计，结合等离子预处理、涂布超薄光阻掩膜、激光直写、显影、固化、化学蚀刻及去掩膜后处理等工艺步骤，实现了线宽≤20μm的高清晰、无锯齿微纹理加工。采用波长355nm皮秒激光器，配备高数值孔径物镜和动态对焦系统，确保边缘垂直度达89°~90°，表面粗糙度Ra<0.1μm。该方法效率比直接激光镭雕提升5~10倍，设备投资成本降低80%，适用于不锈钢、铝合金等多种金属材质，广泛应用于消费电子、汽车、医疗等领域。