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기록
一种用于清晰显现金属镀层交界面分界线的方法及其应用
발명유효
2조회수
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
王秀婷; 戴宝业; 徐艳彩; 董帅; 方盈龙; 张金新
IPC 분류
G01N 23/2202 (2018.01)C23F 4/00 (2006.01)G01N 23/2251 (2018.01)G01N 1/28 (2006.01)G01N 1/32 (2006.01)
本发明提供一种用于清晰显现金属镀层交界面分界线的方法及其应用,所述方法包括以下步骤:表面有镀层的样品切片截面进行氩气等离子体处理,以获得清晰显现的金属镀层交界面交界线。在本发明中,利用氩气等离子体处理切片截面,能够获得清晰显现的金属镀层交界线,该方法简单易行,避免使用化学腐蚀法所带来的腐蚀不均,过度腐蚀造成裂缝等不良状况,本发明所述氩气等离子体处理后的切片无需进行表面喷金处理即可拍照,避免使用抛光法所带来的表面污染和镀层观测不清的影响。本发明氩气等离子体处理后的金属镀层层间界线较为清晰,降低了SEM图像测量误差。