一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品

本申请公开了一种刻蚀形貌预测方法、设备、介质及计算机程序产品，涉及半导体制造技术领域。该刻蚀形貌预测方法包括：获取掩模版图样本的真实光刻图像样本，根据光刻胶模型，对每个掩模版图样本的真实光刻图像样本在多个光刻工艺窗口下的光刻图形轮廓进行预测，得到每个掩模版图样本在各光刻工艺窗口下的预测光刻图像样本，获取真实刻蚀图像标签，并基于预测光刻图像样本以及真实刻蚀图像标签，训练预设刻蚀形貌模型，得到目标刻蚀形貌模型。通过光刻胶模型和目标刻蚀形貌模型，可基于目标掩模版图在单一光刻工艺窗口下的真实光刻图像，实现不同光刻工艺窗口下真实刻蚀图像的预测，具备泛化能力，且提高了预测准确性。