一种掩膜版生产过程中分区曝光图形错位的优化方法

本发明涉及掩膜版制造，具体涉及一种掩膜版生产过程中分区曝光图形错位的优化方法，确定不同尺寸的图形和设备平台不同Y向移动距离对应的分区曝光时两侧区域图形之间的Y向错位量；进行分区域掩膜版Mask生产时，根据图形尺寸和设备平台Y向移动距离选择相应的Y向错位量，利用Y向错位量对分区曝光图形错位进行补偿；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的难以对分区曝光图形错位进行有效优化的缺陷。