一种钛基-二烯二醇干式光刻胶及其制备方法

本发明公开了一种钛基‑二烯二醇干式光刻胶及其制备方法，钛基‑二烯二醇干式光刻胶的制备方法为：以钛源和二烯二醇作为前驱体，进行分子层沉积，沉积后得到钛基‑二烯二醇干式光刻胶。本发明将化学合成步骤与涂覆步骤相结合，不需要提前合成光刻胶，再使用旋涂方法将光刻胶覆盖在硅片表面。相对于旋涂工艺在不同线速度的位置薄厚不均的特点，干法工艺具有良好的均匀性，且无需使用化学溶剂，在使用成本、环境友好以及后处理上相对于使用旋涂的湿法工艺具有较大优势。本发明钛基‑二烯二醇干式光刻胶的线条分辨率能够达到7.9nm，同时在30kV电子束曝光中钛基‑二烯二醇干式光刻胶的灵敏度达到了0.54mC/cm。