用于控制光刻设备的方法和相关设备

公开了一种用于控制光刻设备的方法以及相关设备。该方法被配置为在光刻过程中向衬底提供产品结构，并且包括确定优化数据。优化数据包括至少一个性能参数的被测量的数据和/或被模拟的数据，该至少一个性能参数与将要在光刻过程中施加到衬底上的产品结构和/或其布置相关联。在向所述衬底提供产品结构之前确定被测量的和/或被模型化的特定于衬底的量测数据，所述特定于衬底的量测数据包括与正被施加结构的所述衬底的特性和/或在所述结构被施加到所述衬底上时所述光刻设备的状态有关的量测数据。该方法还包括基于所述优化数据和所述特定于衬底的量测数据，在所述光刻过程期间优化对所述光刻设备的控制。