一种高能离子注入机及方法

本发明涉及一种高能离子注入机及方法，包括ECR离子源、分析磁铁、RFQ场加速器、多级加速单元阵列、能量分析磁铁、第一聚焦四极透镜、电扫描装置和平行化透镜；ECR离子源用于得到多电荷态混合离子束流；分析磁铁用于获得单一电荷态离子束流；RFQ场加速器用于将单一电荷态离子束流能量提升至设定值；多级加速单元阵列用于对能量提升后的单一电荷态离子束流进行能量调节；能量分析磁铁用于对能量调节后的单一电荷态离子束流进行能谱筛选；第一聚焦四极透镜用于对能谱筛选后的束流实施聚焦；电扫描装置用于对聚焦后的单一电荷态离子束流进行水平方向的扇形扩展；平行化透镜用于将发散束流校正为平行束流，本发明可以广泛应用于集成电路制造设备领域中。