一种硅片表面除杂清洗设备

本发明涉及硅片清洗技术领域，具体为一种硅片表面除杂清洗设备，包括周围通过钣金件包裹的清洗机架，形成一个无尘的清洗环境，避免硅片在清洗除杂过程中的第二污染。清洗机架包括水平设置的操作平台及其上的转运部，转运部的进口推送机构，用于沿输入口方向往复推送硅片花篮，以及出口推送机构，用于沿输出口方向往复推送硅片花篮；完成自己装载和卸载硅片花篮。清洗机构包括并列设置的两个除杂槽，除杂槽外壁上贴合设有超声波换能器，产生的高频振动在清洗液中激发特殊的物理效应，实现对传统清洗方式难以处理的污渍、杂质的高效清除。同步转移组件，实现专门高效的转移，实现第一转运组件和第二转运组件能同时保持高效稳定的转运状态。