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案件記録

特别地用于脉冲等离子体处理的等离子体处理供应系统以及用于操作这种等离子体处理供应系统的方法

発明有効
19請求項 · 12 独立
§ Ⅰ

案件概要

IPC分類

H01J 37/32 (2006.01)

本发明涉及特别地用于脉冲等离子体处理的等离子体处理供应系统(100),该等离子体处理供应系统包括:具有至少一个放大器电路(30)的RF发生器(2)、阻抗匹配电路(3)和控制装置(1)。等离子体处理供应系统(100)可以连接至等离子体室(4)。RF发生器(2)连接至阻抗匹配电路(3),阻抗匹配电路(3)被设计成将目标阻抗(10)设置为RF发生器(2)的输入阻抗。控制装置(1)被设计成将目标阻抗(10)设置成使得描述稳定时段(41)中输入阻抗的阻抗曲线的轨迹(40)从起始阻抗区域(42)延伸通过点火阻抗区域(43)至目标阻抗区域(44),RF发生器(2)在点火阻抗区域(43)中提供比在随后的目标阻抗区域(44)中的目标功率水平更高的功率水平。

外部リソース