一种放电等离子烧结制备厚靶的方法

本发明公开了一种放电等离子烧结制备厚靶的方法及装置。方法包括：对选自Ni、Ni、Ga或Ni、Ni、Ga的化合物、合金或其组合的靶材粉末进行预处理并压制成生坯层；将生坯层置于支撑层上组装后放入模具系统内；在氧含量≤10 ppm的氩气气氛下进行放电等离子烧结，控制升温速率100‑150℃/min、保温10‑15 min、电流密度3‑12 A/mm、轴向压力5‑80 MPa；最后冷却脱模得到厚靶；所述装置包括真空与气氛系统、压力与电流导入系统、模具系统及PLC控制系统；本发明适用于Ni及Ga‑Ni合金等材料的厚靶制备，制备的靶材具有元素损耗低、相对密度高、微观结构均匀及抗辐照性能优异的特点，特别适用于医用放射性核素生产所需的高性能厚靶制备。