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기록
化学机械抛光垫缓冲层、制备方法、抛光垫及应用
발명유효
10청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
출원인
湖北鼎汇微电子材料有限公司; 湖北鼎龙汇盛新材料有限公司; 湖北鼎龙控股股份有限公司
발명자
阮波; 罗乙杰; 王磊; 郭纯; 夏元玲; 康智茗
IPC 분류
B24B 37/22 (2012.01)B24B 37/24 (2012.01)B24B 37/00 (2012.01)B24D 18/00 (2006.01)
本发明提供一种化学机械抛光垫缓冲层、制备方法、抛光垫及应用，所述缓冲层包括聚氨酯层和支撑层，所述聚氨酯层由包含聚氨酯、阴离子型助剂、非离子型助剂和溶剂的浆料组合物固化而成。所述缓冲层的硬度为60‑80 Shore A、压缩比为4‑8%、密度为0.6‑0.8g/cm。本发明可提高抛光垫在抛光时的表面平坦度，改善缓冲层与抛光层的粘合性，进一步提高抛光垫的耐受性，减少抛光垫的鼓包问题。