MEMS器件及其制备方法

本申请公开了一种MEMS器件及其制备方法。其中，该MEMS器件的制备方法包括：提供衬底，衬底具有相对的第一表面和第二表面；沿第一图像自第一表面进行蚀刻以形成至少一个第一凹槽；以及沿第二图像自第二表面进行蚀刻以形成至少一个第二凹槽，第二凹槽与相应的第一凹槽连通,其中，第二凹槽的底部设定图像与第一凹槽的底部图像至少部分重叠，在第一方向上，重叠区域的宽度大于设定值。通过对第二凹槽的位置进行限定，可以避免双面刻蚀过程中，由于对准偏差和刻蚀角度波动导致的结构错位或断裂，确保通孔的形成。