高光高透面釉、陶瓷砖及其制备方法

本发明涉及陶瓷技术领域，特别涉及一种高光高透面釉、陶瓷砖及其制备方法。其中，高光高透面釉按质量份数计，其制备原料包括：透明熔块80～90份、气相二氧化硅3～7份、气刀土3～10份、碳酸锶2～5份、助剂0.45～0.75份。所述高光高透面釉通过使用透明熔块，并结合气相二氧化硅改善釉浆的悬浮性和高温流平性，使得面釉在烧成过程能完美在砖面上铺展，形成极其平整光滑的玻璃体表面，从而无需对砖面进行抛光处理，便可使瓷砖表面达到亮光类产品的高光效果，并且釉面具有高硬度、耐磨性好以及抗污染能力强的优点，在使凹凸模具成型的瓷砖制品在亮光装饰场景中得到应用的同时，还解决了现有抛光类瓷砖制品易吸污的问题。