一种低电阻率氧化锡基靶材及其制备方法与应用

本发明公开了一种低电阻率氧化锡基靶材及其制备方法与应用。本发明的低电阻率氧化锡基靶材的制备方法包括以下步骤：混料、球磨、预烧、球磨、造粒、铸坯和烧结，预烧包含两个保温预烧阶段，第一个保温预烧阶段的气氛为惰性气体和氧气的混合气氛，第二个保温预烧阶段的气氛为真空、还原性气氛或惰性气氛。本发明的氧化锡基靶材采用阶段性分步预烧工艺制备，其具有结构和成分均匀、具备合适的孔隙率、电阻率低、镀膜过程中不易开裂等优点，制成的镀膜成分均匀、电导率高、透过率高，适合进行大规模工业化生产和应用。