镀膜设备及基于镀膜设备的镀膜方法

一种镀膜设备及基于镀膜设备的镀膜方法，该设备包括真空室、复合真空系统、磁控溅射系统、工件转动系统、充气系统及镀膜设备控制系统；复合真空系统通过多组真空管路和真空阀门与真空室连通；充气系统通过多种气体的供气管路与真空室连接；镀膜设备控制系统配置为对镀膜全过程进行控制；工件转动系统位于真空室内，并配置为承载目标件进行同心或行星旋转；磁控溅射系统包括安装支架与磁控溅射靶；安装支架位于真空室内；磁控溅射靶设置于安装支架下方；磁控溅射靶通过三自由度驱动机构安装在支架上，由真空电机驱动实现三自由度运动；磁控溅射靶绕真空室的中心分布。该设备实现了对目标件进行更多种材料的膜层镀制，并获得很好的镀膜沉积均匀性。