激光辅助提升磁控溅射过程中材料活性的镀膜系统

本申请公开了一种激光辅助提升磁控溅射过程中材料活性的镀膜系统，镀膜系统包括：溅射设备，溅射设备包括中空的溅射腔室、光阑、阴极靶以及衬底材料板，阴极靶和衬底材料板位于溅射腔室的内部，阴极靶设置于溅射腔室的内壁，衬底材料板立设于溅射腔室的底部，溅射腔室的内壁设有光阑；控制装置，控制装置用于控制溅射设备对阴极靶和衬底材料板进行磁控溅射，以将阴极靶的粒子溅射在衬底材料板上形成膜层；光学系统，光学系统用于产生预设激光，当光阑处于开启状态时，预设激光穿过光阑照射在衬底材料板，以提高膜层和衬底材料板的结合强度。本申请利用激光照射衬底表面，活化衬底材料与阴极靶，从而提高其结合强度，能够提高膜层溅射的成品率。