一种等离子体辅助原子层沉积系统及工艺

本发明公开了一种一种等离子体辅助原子层沉积系统及工艺，属于薄膜沉积技术领域。所述系统包括：工艺腔，所述工艺腔的顶部设有扩散口，所述工艺腔的底部通过升降机构连接样品台，所述工艺腔的底部还通过抽气管路连接真空泵，所述工艺腔上端通过等离子发生器上端连接第一气路结构，所述工艺腔的侧部连接第二气路结构；传输腔，所述传输腔的底部通过另一抽气管路连接真空泵。本发明的第一气路结构中，氨气气源与单口瓶、双口瓶的气源均与辅助载气连通，则保证气体传输工程中的真空度，两个腔体底部分别连通真空泵，这样能够保证两个腔体的真空度，有效防止氮化物薄膜被氧化，进而保证电学性能。