半导体沉积工艺设备基座中心定位治具

本发明公开了一种半导体沉积工艺设备基座中心定位治具，包括：可形变主体，其形成为中空结构，其连接有气管，其充气后产生形变；气管，其一端连接气源，其另一端连接可形变主体，其用于向可形变主体充入压力气。本发明能提高对齐成功率，能减少PM Fail率，能增加设备Uptime。