一种超低轮廓高剥离强度的铜箔及其制备方法和应用

本发明涉及铜箔加工技术领域，尤其涉及一种超低轮廓高剥离强度的铜箔及其制备方法和应用。一种超低轮廓高剥离强度的铜箔的制备方法，其步骤包括：（1）将原料箔在一次处理配液中进行第一次表面处理，采用高电流密度对铜箔进行强极化处理，使铜箔表面形成细小且紧密的铜瘤，得到一次处理铜箔；（2）一次处理铜箔在二次处理配液中进行第二次表面处理，通过表面低电流的平滑镀使第一次表面处理形成的铜瘤得以巩固从而不易脱落，得到超低轮廓高剥离强度的铜箔。通过上述方法制得的铜箔，具有超低轮廓性和较高的剥离强度。