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기록

上液局部镀金机构

발명유효
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

王飞; 王金光

IPC 분류

C25D 17/00 (2006.01)C25D 21/00 (2006.01)C25D 5/02 (2006.01)C25D 5/08 (2006.01)

上液局部镀金机构,涉及镀金结构技术领域,包括固定座,固定座的上表面固接有围板,固定座处于围板内部呈矩阵式分布有若干个喷液板,喷液板上均布有喷液孔,每个喷液板的下方贴合有限流屏蔽板,若干个限流屏蔽板共同支撑于分流遮蔽板上,分流遮蔽板支撑于流道分流板上,流道分流板上对应每个限流屏蔽板开设有主分流流道,分流遮蔽板与限流屏蔽板上开设有将主分流流道与喷液孔相连通的布液结构。本发明解决了传统技术中的金液在输送过程中,金液无法实现均匀的与产品的镀金表面进行接触,进而影响了产品表面镀金的均匀性;以及现有的产品在进行局部镀金过程中,每次只能实现对单个产品进行局部镀金,使得降低了镀金效率的问题。