基于飞秒激光诱导在金属膜上一步形成刻蚀用掩模的方法

一种基于飞秒激光诱导在金属膜上一步形成刻蚀用掩模的方法，加工对象采用单晶硅，利用电子束蒸发台在单晶硅表面镀一层铬膜，然后搭建飞秒激光微纳加工光学系统，利用柱面镜将光斑整形为线光斑，将镀有铬膜的单晶硅基底固定于加工位点上，通过集成控制系统控制飞秒激光器和三维运动平台综合调控，实现硅表面激光诱导铬掩模的制备，在具有铬掩模的硅基底上进行等离子体刻蚀，通过调控刻蚀时间实现结构深度的调控；将加工完后的光栅微槽阵列结构超声浴清洗；本发明能够有效地实现大面积高深宽比亚微米光栅微槽阵列的高质量稳定制备，且可实现结构深度的大幅调控。