光场调制器件的制备方法、光场调制器以及光场调制系统

本发明提供一种光场调制器件的制备方法、光场调制器以及光场调制系统。光场调制器件的制备方法包括提供一基底；在所述基底上制作包括多层纳米孔的改性区域。本方法将相位板与锥透镜的相位分布进行模拟，得到预设相位分布，且根据预设相位分布在基底中制备改性区域，解决了光学系统复杂、器件对准敏感、能量利用率低及高功率适应性差等问题。并且系统集成化设计消除了分立元件间的对准需求，多层纳米孔结构在保持主瓣能量的同时实现旁瓣的多级衰减，进一步地，通过基底内部改性区域的加工方式提升了器件对高功率激光的耐受性，从而在激光加工和光学成像领域实现了更优的旁瓣抑制效果。