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기록
套刻对准标记和套刻误差的测量方法
발명유효
20청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
汪韦刚; 薛晓凡
IPC 분류
G03F 7/20 (2006.01)H10W 46/00 (2026.01)H10P 74/20 (2026.01)
一种套刻对准标记和套刻误差的测量方法,套刻对准标记包括:前层标记,在平行于前层标记表面的方向上,前层标记具有第一几何中心;当层标记,位于前层标记的上方,在平行于当层标记表面的方向上,当层标记具有第二几何中心,且在同一投影面上,当层标记的投影图形位于前层标记的投影图形内部。本发明实施例能够通过获取第一几何中心的第一坐标,以及获取第二几何中心的第二坐标,确定第一坐标和第二坐标之间偏移矢量,用于表征套刻误差,从而能够同时获得包括横向套刻误差和纵向套刻误差的误差数值,与需要分别设置横向和纵向的套刻对准标记的方案相比,有利于节省套刻对准标记的面积,进而提高了套刻对准标记的性能。