一种用于硅基材料曝光的视觉对位设备

本发明涉及半导体光刻技术领域，公开了一种用于硅基材料曝光的视觉对位设备，通过在掩模版上预设多个圆形透光标志点，经多角度旋转曝光在可移动感光载台上形成对位标志点，采集坐标后以最小二乘法拟合掩模版旋转中心，建立旋转角度与坐标的补偿数列；量产时通过寻边算法获取基板实际姿态角度与中心坐标，结合角度差值选取补偿值，利用旋转矩阵反推待补偿角度，驱动UVW平台完成XYθ三轴精准纠偏。本申请无需试曝硅基基板与多相机配置，有效解决现有技术物料浪费、成本高、效率低等缺陷，适配硅基材料无对准标识特性。