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기록
一种热处理设备腔体的压力控制方法、装置及相关设备
발명유효
10청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
郭新兴; 韩明新
IPC 분류
G05D 16/20 (2006.01)C23C 16/52 (2006.01)H10P 72/00 (2026.01)H10F 71/00 (2025.01)
本申请公开了应用于控制技术领域的一种热处理设备腔体的压力控制方法、装置及相关设备。该方法应用于分别与真空泵和热处理设备腔体的压力测量装置连接的控制设备。控制设备获取热处理设备腔体的实际压力值,并确定压力偏差值。压力偏差值衡量热处理设备腔体的腔体设定压力值与实际压力值之间的差距。控制设备根据压力偏差值所属的子取值范围,确定与子取值范围呈正相关的真空泵泵速。如此能够确定与不同的取值范围压力偏差值适配的真空泵泵速,实现压力控制的不同阶段的适应性压力控制,满足腔体压力变化速度和稳定性的要求。控制设备利用真空泵泵速控制真空泵抽吸热处理设备腔体中的气体,提升利用真空泵控制腔体压力的控制效果。