版图处理方法、装置、电子设备及存储介质

本申请公开了版图处理方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取待处理版图；所述待处理版图包括多个图形，所述多个图形包括至少一个待调整图形；基于所述多个图形，确定所述待处理版图的目标版图图形密度；基于全局偏差与版图图形密度之间的相关性，确定所述目标版图图形密度对应的目标全局偏差；基于所述目标全局偏差，对所述至少一个待调整图形分别进行偏差补偿处理，得到目标版图。本申请可以消除不同掩膜版之间呈现出的刻蚀误差上的偏差，保证了工艺的健康度，提高了半导体产品的良率。