等离子体装置

本发明涉及等离子体装置。本发明的课题在于存在被处理物暴露于电子束的担忧。电子束照射装置(50)具备处理容器(20)、反应容器(40)、电子束照射装置(50)、以及反射壁(RW)。处理容器(20)划分出能够载置被处理物(W)的第一空间(S1)。反应容器(40)划分出气体能够流入的第二空间(S2)。电子束照射装置(50)能够从照射口(52)向第二空间(S2)内照射电子束。反应容器(40)具有气体能够流出的开口(41)。第一空间(S1)通过开口(41)与第二空间(S2)连通。在反应容器(40)的第二空间(S2)内，能够反射电子束的反射壁(RW)相对于电子束照射装置(50)的照射口(52)位于电子束照射的方向上。