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기록
厚铜线路板金属化半孔加工工艺
발명유효
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
陈市伟; 黄学; 李美兴
IPC 분류
H05K 3/00 (2006.01)H05K 3/18 (2006.01)H05K 3/42 (2006.01)H05K 3/40 (2006.01)H05K 3/06 (2006.01)
本申请涉及一种厚铜线路板金属化半孔加工工艺,包括如下步骤:在压合后的线路板上钻孔,为后续PTH半孔做准备;对线路板进行电镀一铜后进行负片干膜;对极短槽孔内壁进行镀铜镀锡;用CNC数控机床对金属孔加工,铣切捞出半孔;将捞出半孔的线路板剥膜后进行快速碱性蚀刻处理;半孔镀锡干膜:在线路板上真空压上镀锡干膜,在半孔位置形成开窗;线路板通过图形电镀线进行镀锡,在半孔裸露的孔壁铜上镀上一层耐碱性蚀刻的锡层;对线路板进行去膜、蚀刻并剥锡处理,得到具有半孔的线路板。本加工工艺可有效解决因铜厚蚀刻线过慢导致孔壁蚀刻过量的问题,并可确保蚀刻后PTH半孔的成品孔壁面积大于原半孔孔壁面积的90%以上。