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一种铜箔薄膜对齐配准机构及控制方法

발명유효
3조회수
7청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

IPC 분류

H05K 3/46 (2006.01)

本发明公开了一种铜箔薄膜对齐配准机构及控制方法,该机构包括对位模组、检测模组、修正模组、薄膜放置模组和控制模组,其中,对位模组通过镭射基准线在叠合平台上提供对位参考,检测模组采集铜箔或薄膜相对基准线的偏移量,控制模组根据检测结果生成修正指令,驱动修正模组对铜箔进行位置微移和角度微调,从而使铜箔边缘与基准线重合,实现精准对齐;薄膜放置模组通过多组夹爪夹持薄膜边缘并输送至叠合平台,在压块组件与吹气组件的配合下实现平整放置。通过本发明的机构与方法,可有效保证铜箔与薄膜在叠合前的对齐精度和贴合平整度,减少层间偏移,提升叠层结构的均匀性和最终成品的良率。