一种栅槽形貌精确可控的T型栅及其制备方法

本发明公开了一种栅槽形貌精确可控的T型栅及其制备方法，该方法包括：获取外延基片，并在其表面沉积钝化层；在钝化层的上表面旋涂热回流光刻胶，并进行曝光和显影，形成第一光刻胶图案；对样品进行热回流处理，使第一光刻胶图案转变为第二光刻胶图案；以第二光刻胶图案作为掩膜，采用快速刻蚀与慢速刻蚀相结合的方式刻蚀钝化层，形成栅极凹槽；去除样品表面的残胶，在样品表面依次旋涂一层剥离胶和一层光刻胶后，对样品进行曝光及显影，形成覆盖栅极凹槽的栅帽图案；将样品转移至电子束蒸发腔室中蒸镀栅金属，并剥离其它未曝光区域的光刻胶和栅金属，形成T型栅。本发明不仅可以精确控制T型栅的尺寸，还能改善T型栅的栅槽侧壁陡直性问题。