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기록
半导体功率器件及其制备方法
발명유효
1조회수
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
孙博韬; 张园览; 修德琦
IPC 분류
H10D 30/63 (2025.01)H10D 30/01 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)H10D 62/60 (2025.01)
本申请提供一种半导体功率器件及其制备方法,半导体功率器件包括:半导体衬底层;位于半导体衬底层在第一方向一侧的漂移层;位于漂移层中的阱区,在第二方向上相邻的阱区之间具有JFET区,JFET区的导电类型和阱区的导电类型相反;其中,JFET区包括在第一方向排布且连接的第一JFET区和第二JFET区,第一JFET区的掺杂浓度小于第二JFET区的掺杂浓度,第一JFET区在第二方向上的平均尺寸小于第二JFET区在第二方向上的平均尺寸;其中,第一方向和第二方向相交。