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案件記録

磁性隧道结及其参考层和SOT-MRAM

発明有効
10請求項 · 3 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

曾定桂; 高扬; 王耀华; 孟凡涛

IPC分類

H10N 50/10 (2023.01)H10N 50/85 (2023.01)H10B 61/00 (2023.01)

本发明提供一种磁性隧道结及其参考层和SOT‑MRAM,其中磁性隧道结参考层包括:铁磁结构层;铁磁结构层包括至少一个堆叠层单元,堆叠层单元包括第一增强层、基础参考层和第二增强层中的至少两种;第一增强层中含有铁元素,第二增强层中含有钴元素,所述铁磁结构层中的各相邻层间相互铁磁耦合。本发明能够提高磁性隧道结的磁阻率。

外部リソース