化合物、组合物、表面处理剂、物品以及物品的制造方法

本发明提供：作为能够对基材形成指纹去除性优异的表面处理层的表面处理剂有用的新型化合物、组合物、表面处理剂、物品、物品的制造方法。式（1）{T‑L‑（Si（R）‑O）‑Si（R）‑L}‑X所示的化合物。T为（R）Si‑等，R为烃基等，L为‑O‑等，R为烃基，L为单键等，X为‑L‑A‑（Si（R）L）等，L为‑C（R）‑等，R和R为氢原子等，A为（q+1）价的连接基团，L为（p+q）价的芳香环基等，L为单键等，R为烃基，L为水解性基团等，m为1以上的数，n为0~2的整数，p为2或3，q为1以上的整数。