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案件記録
光学测量标记、光学测量系统和光刻设备
発明有効
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§ Ⅰ
案件概要
発明者
D·Y·C·琼; 桂莉; 弗兰克·斯塔尔斯; M·P·J·M·迪克斯; 玛丽亚-克莱尔·范拉尔; J·J·M·巴塞曼斯
IPC分類
G03F 7/00 (2006.01)G03F 9/00 (2006.01)
一种用于成像系统的光学测量标记,包括反射区,所述反射区被配置成反射入射辐射以用于由所述成像系统形成所述光学测量标记的图像。所述光学测量标记包括扩散子结构,所述扩散子结构被配置成散射所述入射辐射以用于增加所述成像系统的数值孔径的照射。
外部リソース