上部顶板和基片处理装置

本发明的上部顶板是配置在腔室的上部的上部顶板，包括：基座；配置在基座的下表面侧的上部电极；和导热介质，其设置在基座的下表面与上部电极的上表面之间，填充在由密封件包围的传热空间中，基座在与传热空间邻接的下表面形成有与传热空间连通的缓冲空间，导热介质还填充在缓冲空间的一部分中。