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案件記録

冷源和负电容场效应晶体管及方法

発明有効
20請求項 · 3 独立
§ Ⅰ

案件概要

IPC分類

H10D 64/68 (2025.01)H10D 12/00 (2025.01)H10D 62/822 (2025.01)H10D 30/60 (2025.01)

提供了一种晶体管(200a),包括源极区、漏极区、沟道和栅极。所述源极区具有硅化物区(224)和掺杂有第一掺杂剂类型的半导体区(222n);所述漏极区(206p)包括掺杂有第二掺杂剂类型的半导体;所述沟道(208p)位于所述源极区和所述漏极区之间;所述栅极(210)位于所述沟道上方,包括铁电材料(216);所述硅化物区位于所述半导体区和所述沟道之间。

外部リソース