等离子体处理装置和电位控制方法

等离子体处理装置具有腔室、载置台、多个电极、电源、开关部和控制部。腔室构成为能够在内部生成等离子体。载置台配置在腔室内，由电介质形成，构成为能够载置基片，并且构成为能够在基片的周围载置环组件。多个电极设置在载置台的内部的与环组件相对的部分。电源构成为能够供给用于吸引等离子体中的带电粒子的偏置电功率。开关部构成为能够将从电源供给的偏置电功率单独地供给至多个电极。控制部能够控制开关部。