匀胶装置、涂胶系统及涂胶方法

本申请实施例提供一种匀胶装置、涂胶系统及涂胶方法，涉及显示技术领域。上述匀胶装置包括旋转底座、连接组件及承载平台。通过将基片放置在限位凹槽内，并通过连接组件与承载平台连接以带动承载平台旋转，可以利用离心力将胶材均匀涂覆于基片上，减少胶材凸起的情况。此外，通过承载平台的涂胶侧与基片表面形成涂胶面，扩大匀胶范围，不仅可以减少边缘残胶，还可以有效减小基片边缘的匀胶问题，将边角位置因张力作用回缩的边缘胶材留在承载平台，进一步提高基片涂胶的均匀性，从而提高发光器件的转移良率。